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C3h9al TMA Tankgasspeicher 6,5n 99,99995% Trimethylaluminium
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C3h9al TMA Tankgasspeicher 6,5n 99,99995% Trimethylaluminium
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C3h9al TMA Tankgasspeicher 6,5n 99,99995% Trimethylaluminium

MOQ: 1 L
Preis: US $650/L
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 TAGE
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 5000L/month
Ausführliche Information
Beschreibung des Produkts
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
C3h9al
Dokument
Produktbroschüre PDF
Modell Nr.:
Trimethylaluminium
Aussehen:
Farblos
Chemische Formel:
C3h9al
Verkehrswesen:
Auf See
Modell Nr.:
Trimethylaluminium
Transportpaket:
Zylinder
Spezifikation:
Zylinder
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
China
HS-Code:
2812190091
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
100t/year
CAS Nr.:
10025-78-2
Formeln:
C3h9al
EINECS:
7783-82-6
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Industrieller Grad
Chemische Eigenschaften:
NICHT BRENNBARES GAS
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1 L
Preis:
US $650/L
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 TAGE
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
5000L/month
Hervorheben:

C3h9al TMA Druckgasbehälter

,

6.5n Druckgasbehälter

,

C3h9al Lagerung von TMA-Gasflaschen

Beschreibung des Produkts

Beschreibung des Produkts

Trimethylaluminum (TMA), auch bekannt als Aluminiumtrimethyl, ist eine organometallische Verbindung mit der chemischen Formel Al ((CH3) 3. Es ist eine pyrophorische Flüssigkeit, die farblos ist und eine starke,Unangenehmer GeruchTMA ist hochreaktiv und wird hauptsächlich in verschiedenen chemischen Verfahren, insbesondere in der Halbleiterindustrie zur Ablagerung dünner Folien, als Vorläufer verwendet.

Hier sind einige wichtige Eigenschaften und Anwendungen von Trimethylaluminum:

Eigenschaften:

  1. Chemische Formel: Al ((CH3) 3
  2. Molekülgewicht: 90,1 g/mol
  3. Siedepunkt: 125-126°C (257-259°F)
  4. Schmelzpunkt: -93°C
  5. Dichte: 0,777 g/cm3 bei 20°C

Anwendungen:

  1. Chemische Dampfdeponierung (CVD): TMA wird in der Halbleiterindustrie als Vorstufe im chemischen Dampfdeponierungsprozess zur Ablagerung dünner Folie von Aluminiumverbindungen weit verbreitet.zum Beispiel Aluminiumoxid (Al2O3)Diese Filme sind für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten unerlässlich.
  2. Atomic Layer Deposition (ALD): TMA wird auch bei der Deposition atomarer Schichten eingesetzt, eine Technik, die eine präzise und konforme Deposition von ultradünnen Filmen ermöglicht.TMA wird häufig mit anderen Vormaterialien kombiniert, um hochwertige Aluminium-Folien abzulegen.
  3. Katalyse: Trimethylaluminum kann in verschiedenen organischen Reaktionen wie Polymerisations- und Hydroformylierungsprozessen als Katalysator oder Ko-Katalysator fungieren.
  4. Flammschutzmittel: TMA wird manchmal als Flammschutzmittel in bestimmten Polymeren verwendet, um ihre feuerbeständigen Eigenschaften zu verbessern.
  5. Forschung und Entwicklung: TMA wird in Forschungslabors eingesetzt, um neue synthetische Routen zu erforschen, neue Materialien zu entwickeln und die organometallische Chemie zu studieren.

Es ist wichtig zu beachten, dass Trimethylaluminum sehr brennbar ist und heftig mit Luft und Wasser reagiert.einschließlich der Handhabung in einem gut belüfteten Bereich und der Verwendung spezieller Geräte, sind bei der Arbeit mit dieser Verbindung notwendig.

 

Grundlegende Informationen.
Modellnummer: C3H9Al Quelle Katalysatorische Reform
Transportpaket Zylinder Spezifikation 7.5L / 5kg
Handelsmarke CMC Ursprung Suzhou, China
HS-Code 2812190091 Produktionskapazität 100 t/ Jahr
Beschreibung des Produkts
Analysebescheinigung
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alAlle Werte PPM nach Gewicht auf Metall

Analysemethode:ICP-OES-1, Si&Zn-Elementen-Analysemethode:ICP-OES-D

Organische oder Sauerstoffverunreinigungen nach FT-NMR

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Firmeninformationen:

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie. Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Detaillierte Fotos

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al

Workshop-Anzeige:

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Lagereinrichtung:
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Verpackung und Versand

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al

Stichworte: 

Phosphingas,  

Gasphosphin,  

Druckgasbehälter

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C3h9al TMA Tankgasspeicher 6,5n 99,99995% Trimethylaluminium

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MOQ: 1 L
Preis: US $650/L
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Trimethylaluminium
Aussehen:
Farblos
Chemische Formel:
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Verkehrswesen:
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Modell Nr.:
Trimethylaluminium
Transportpaket:
Zylinder
Spezifikation:
Zylinder
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
China
HS-Code:
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100t/year
CAS Nr.:
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Formeln:
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EINECS:
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Grade-Standard:
Industrieller Grad
Chemische Eigenschaften:
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Anpassung:
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Min Bestellmenge:
1 L
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15 TAGE
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Hier sind einige wichtige Eigenschaften und Anwendungen von Trimethylaluminum:

Eigenschaften:

  1. Chemische Formel: Al ((CH3) 3
  2. Molekülgewicht: 90,1 g/mol
  3. Siedepunkt: 125-126°C (257-259°F)
  4. Schmelzpunkt: -93°C
  5. Dichte: 0,777 g/cm3 bei 20°C

Anwendungen:

  1. Chemische Dampfdeponierung (CVD): TMA wird in der Halbleiterindustrie als Vorstufe im chemischen Dampfdeponierungsprozess zur Ablagerung dünner Folie von Aluminiumverbindungen weit verbreitet.zum Beispiel Aluminiumoxid (Al2O3)Diese Filme sind für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten unerlässlich.
  2. Atomic Layer Deposition (ALD): TMA wird auch bei der Deposition atomarer Schichten eingesetzt, eine Technik, die eine präzise und konforme Deposition von ultradünnen Filmen ermöglicht.TMA wird häufig mit anderen Vormaterialien kombiniert, um hochwertige Aluminium-Folien abzulegen.
  3. Katalyse: Trimethylaluminum kann in verschiedenen organischen Reaktionen wie Polymerisations- und Hydroformylierungsprozessen als Katalysator oder Ko-Katalysator fungieren.
  4. Flammschutzmittel: TMA wird manchmal als Flammschutzmittel in bestimmten Polymeren verwendet, um ihre feuerbeständigen Eigenschaften zu verbessern.
  5. Forschung und Entwicklung: TMA wird in Forschungslabors eingesetzt, um neue synthetische Routen zu erforschen, neue Materialien zu entwickeln und die organometallische Chemie zu studieren.

Es ist wichtig zu beachten, dass Trimethylaluminum sehr brennbar ist und heftig mit Luft und Wasser reagiert.einschließlich der Handhabung in einem gut belüfteten Bereich und der Verwendung spezieller Geräte, sind bei der Arbeit mit dieser Verbindung notwendig.

 

Grundlegende Informationen.
Modellnummer: C3H9Al Quelle Katalysatorische Reform
Transportpaket Zylinder Spezifikation 7.5L / 5kg
Handelsmarke CMC Ursprung Suzhou, China
HS-Code 2812190091 Produktionskapazität 100 t/ Jahr
Beschreibung des Produkts
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Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie. Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.

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