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China Fabrik besten Preis 99,999% 5n Zylinder Gas Si2h6 Disiliköthane

China Fabrik besten Preis 99,999% 5n Zylinder Gas Si2h6 Disiliköthane

MOQ: 1L
Preis: Us $50000/L
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 TAGE
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 5000L/month
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Si2h6
Produktbezeichnung:
Disilikonethan
Verkehrswesen:
Auf See
Zulassung:
Elektronische Qualität
Reinheit:
99999%
Transportpaket:
Flasche
Spezifikation:
47 L/10 kg
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
Suzhou, China
HS-Code:
2812190091
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
600 t/Jahr
CAS Nr.:
7783-82-6
Formeln:
Si2h6
EINECS:
7783-82-6
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Elektronische Qualität
Chemisches Eigentum:
NICHT BRENNBARES GAS
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1L
Preis:
Us $50000/L
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 TAGE
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
5000L/month
Beschreibung des Produkts

Beschreibung des Produkts

Si2H6 Gas ist bekannt als Disilane, eine anorganische Verbindung aus Silizium (Si) und Wasserstoff (H).Hier sind einige wichtige Punkte über Disilangas:

  1. Struktur und Eigenschaften: Disilane besteht aus zwei Siliziumatomen, die mit sechs Wasserstoffatomen verbunden sind.Disilane ist hochreaktiv und kann in Gegenwart von Luft oder Sauerstoff spontan entzünden..

  2. Synthese und Herstellung: Disilane kann mit verschiedenen Methoden synthetisiert werden.einschließlich der Reaktion von Siliziumpulver mit Wasserstoffgas bei hohen Temperaturen oder durch Hydrolyse von aus Silizium abgeleiteten VorstufenEs wird aufgrund seiner Reaktivität und Entflammbarkeit typischerweise in einer kontrollierten Umgebung hergestellt und verwendet.

  3. Anwendungen:

    • Halbleiterindustrie: Disilane wird zur Herstellung von dünnen Siliziumfolien verwendet, insbesondere zur Ablagerung hochwertiger Siliziumfolien in der Halbleiterindustrie.Es dient als Vorläufer für die Bildung von Siliziumschichten in Prozessen wie chemischer Dampfdeposition (CVD) und Atomschichtdeposition (ALD).

    • Solarzellen: Disilane wird als Vorläufergas bei der Herstellung von Silizium-Dünnschicht-Solarzellen verwendet.Die Ablagerung amorpher Siliziumfolien mit Disilane ermöglicht die Herstellung kostengünstiger und flexibler Solarzellen.

    • Chemische Synthese: Disilane kann als Reduktionsmittel oder als Siliziumquelle in verschiedenen chemischen Reaktionen verwendet werden.Polymere auf Siliziumbasis, und andere siliziumhaltige Materialien.

  4. Sicherheitsaspekte: Disilane ist sehr brennbar und kann explosive Mischungen mit Luft bilden.Das Gas sollte mit äußerster Vorsicht behandelt werden., und geeignete Sicherheitsmaßnahmen wie eine angemessene Belüftung und persönliche Schutzausrüstung einzuhalten.

Diesilangas ist zwar hochreaktiv und gefährlich, hat aber wichtige Anwendungen in der Halbleiterindustrie und bei der Herstellung von Silizium-basierten Materialien.Er spielt eine Rolle bei der Entwicklung fortschrittlicher elektronischer Geräte und erneuerbarer Energietechnologien.

Grundlegende Informationen.
Modellnummer: Si2H6 Transportpaket Y-Zylinder
Spezifikation: 47 L/10 kg Handelsmarke CMC
Herkunft: Suzhou, China HS-Code 2812190091
Produktionskapazität: 600 t/Jahr    


Spezifikationen:
Electronic Grade 99.999% 5n Si2h6 Gas
Unternehmensprofil

Electronic Grade 99.999% 5n Si2h6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie.Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.

Electronic Grade 99.999% 5n Si2h6 GasProduktbilder
Electronic Grade 99.999% 5n Si2h6 Gas
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China Fabrik besten Preis 99,999% 5n Zylinder Gas Si2h6 Disiliköthane
MOQ: 1L
Preis: Us $50000/L
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 TAGE
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 5000L/month
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Si2h6
Produktbezeichnung:
Disilikonethan
Verkehrswesen:
Auf See
Zulassung:
Elektronische Qualität
Reinheit:
99999%
Transportpaket:
Flasche
Spezifikation:
47 L/10 kg
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
Suzhou, China
HS-Code:
2812190091
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
600 t/Jahr
CAS Nr.:
7783-82-6
Formeln:
Si2h6
EINECS:
7783-82-6
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Elektronische Qualität
Chemisches Eigentum:
NICHT BRENNBARES GAS
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1L
Preis:
Us $50000/L
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 TAGE
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
5000L/month
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Si2H6 Gas ist bekannt als Disilane, eine anorganische Verbindung aus Silizium (Si) und Wasserstoff (H).Hier sind einige wichtige Punkte über Disilangas:

  1. Struktur und Eigenschaften: Disilane besteht aus zwei Siliziumatomen, die mit sechs Wasserstoffatomen verbunden sind.Disilane ist hochreaktiv und kann in Gegenwart von Luft oder Sauerstoff spontan entzünden..

  2. Synthese und Herstellung: Disilane kann mit verschiedenen Methoden synthetisiert werden.einschließlich der Reaktion von Siliziumpulver mit Wasserstoffgas bei hohen Temperaturen oder durch Hydrolyse von aus Silizium abgeleiteten VorstufenEs wird aufgrund seiner Reaktivität und Entflammbarkeit typischerweise in einer kontrollierten Umgebung hergestellt und verwendet.

  3. Anwendungen:

    • Halbleiterindustrie: Disilane wird zur Herstellung von dünnen Siliziumfolien verwendet, insbesondere zur Ablagerung hochwertiger Siliziumfolien in der Halbleiterindustrie.Es dient als Vorläufer für die Bildung von Siliziumschichten in Prozessen wie chemischer Dampfdeposition (CVD) und Atomschichtdeposition (ALD).

    • Solarzellen: Disilane wird als Vorläufergas bei der Herstellung von Silizium-Dünnschicht-Solarzellen verwendet.Die Ablagerung amorpher Siliziumfolien mit Disilane ermöglicht die Herstellung kostengünstiger und flexibler Solarzellen.

    • Chemische Synthese: Disilane kann als Reduktionsmittel oder als Siliziumquelle in verschiedenen chemischen Reaktionen verwendet werden.Polymere auf Siliziumbasis, und andere siliziumhaltige Materialien.

  4. Sicherheitsaspekte: Disilane ist sehr brennbar und kann explosive Mischungen mit Luft bilden.Das Gas sollte mit äußerster Vorsicht behandelt werden., und geeignete Sicherheitsmaßnahmen wie eine angemessene Belüftung und persönliche Schutzausrüstung einzuhalten.

Diesilangas ist zwar hochreaktiv und gefährlich, hat aber wichtige Anwendungen in der Halbleiterindustrie und bei der Herstellung von Silizium-basierten Materialien.Er spielt eine Rolle bei der Entwicklung fortschrittlicher elektronischer Geräte und erneuerbarer Energietechnologien.

Grundlegende Informationen.
Modellnummer: Si2H6 Transportpaket Y-Zylinder
Spezifikation: 47 L/10 kg Handelsmarke CMC
Herkunft: Suzhou, China HS-Code 2812190091
Produktionskapazität: 600 t/Jahr    


Spezifikationen:
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Unternehmensprofil

Electronic Grade 99.999% 5n Si2h6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie.Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.

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