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| MOQ: | 1 kg |
| Preis: | US $500/kg |
| Standardverpackung: | Zylinder/Tank |
| Lieferfrist: | 15 TAGE |
| Zahlungs-Methode: | L/C, T/T |
| Lieferkapazität: | 2000 Tonnen/Jahr |
NF3-Gas bezieht sich auf Stickstofftrifluorid in seinem gasförmigen Zustand.Es wird aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften häufig in verschiedenen industriellen Anwendungen verwendetHier sind einige wichtige Punkte zum NF3-Gas:
Chemische Zusammensetzung: NF3 besteht aus einem Stickstoff (N) -Atom, das an drei Fluor (F) -Atome gebunden ist.
Physikalische Eigenschaften: NF3 ist ein nicht brennbares Gas mit einem Siedepunkt von -129 Grad Celsius und einem Schmelzpunkt von -206 Grad Celsius.Es ist etwas dichter als Luft und bleibt bei Raumtemperatur und normalem Luftdruck gasförmig.
Anwendungen: NF3-Gas hat verschiedene industrielle Anwendungen:
Elektronikherstellung: Es wird in der Elektronikindustrie häufig als Reinigungsmittel zur Entfernung von Rückständen aus Siliziumwafern, Kammern,und andere elektronische Bauteile während des HerstellungsprozessesNF3-Gas wird aufgrund seiner geringen Reaktivität mit vielen Materialien und seiner Fähigkeit, fluorierte Verbindungen effektiv zu entfernen, bevorzugt.
Plasma-Ätzen: NF3 wird als Plasma-Ätzer in der Halbleiterindustrie verwendet.Es wird zur selektiven Entfernung von Materialien von der Oberfläche von Siliziumwafern und anderen Substraten während der Herstellung von Mikroelektronik verwendet.
Flachbildschirmherstellung: NF3-Gas wird auch bei der Herstellung von Flachbildschirmen wie Flüssigkristallbildschirmen (LCD) und Plasmabildschirmen verwendet.Es wird für Reinigungs- und Ätzverfahren während der Herstellung dieser Displays verwendet.
Solarzellen: NF3 findet Anwendung bei der Herstellung von Dünnschicht-Photovoltaikzellen, die in Solarzellen verwendet werden.
Fluorierungsmittel: Es kann als Fluoridationsmittel in verschiedenen chemischen Reaktionen verwendet werden, um Fluoratome in organische Moleküle einzuführen.
Sicherheitsbedarf: Obwohl NF3 nicht brennbar ist, ist es trotzdem wichtig, mit ihm vorsichtig umzugehen und geeignete Sicherheitsmaßnahmen zu treffen.Es kann Sauerstoff in engen Räumen verdrängen.Bei der Arbeit mit NF3-Gas sollte eine ausreichende Belüftung gewährleistet und geeignete Sicherheitsrichtlinien und -ausrüstung eingehalten werden.
Bei der Handhabung von NF3-Gas wird empfohlen, sich an Sicherheitsprotokolle zu halten, geeignete Schutzausrüstung zu verwenden und eine gute Belüftung im Arbeitsbereich zu gewährleisten, um eine sichere Umgebung zu gewährleisten.
Grundlegende Informationen
| Transportpaket: | 47L, 440L | Schmelzpunkt | -206,79°C |
| Marke: | CMC | Siedepunkt | -129,0 °C |
| Spezifikation | 100.00% | Produktionskapazität | 5000 t/Jahr |
| Zylinderdruck | 15MPa/20MPa | Ventile | Qf-30A/Cga350 |
| Aussehen | Farblos, geruchlos | Dichte | 20,96 kg/m3 |
Spezifikationen:
| Spezifikationen | Firmenstandard |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| Kohlenstoff | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Feuchtigkeit | ≤1 ppm |
| Ausgedrückt als HF | ≤1 ppm |
Detailliertes Foto
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| MOQ: | 1 kg |
| Preis: | US $500/kg |
| Standardverpackung: | Zylinder/Tank |
| Lieferfrist: | 15 TAGE |
| Zahlungs-Methode: | L/C, T/T |
| Lieferkapazität: | 2000 Tonnen/Jahr |
NF3-Gas bezieht sich auf Stickstofftrifluorid in seinem gasförmigen Zustand.Es wird aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften häufig in verschiedenen industriellen Anwendungen verwendetHier sind einige wichtige Punkte zum NF3-Gas:
Chemische Zusammensetzung: NF3 besteht aus einem Stickstoff (N) -Atom, das an drei Fluor (F) -Atome gebunden ist.
Physikalische Eigenschaften: NF3 ist ein nicht brennbares Gas mit einem Siedepunkt von -129 Grad Celsius und einem Schmelzpunkt von -206 Grad Celsius.Es ist etwas dichter als Luft und bleibt bei Raumtemperatur und normalem Luftdruck gasförmig.
Anwendungen: NF3-Gas hat verschiedene industrielle Anwendungen:
Elektronikherstellung: Es wird in der Elektronikindustrie häufig als Reinigungsmittel zur Entfernung von Rückständen aus Siliziumwafern, Kammern,und andere elektronische Bauteile während des HerstellungsprozessesNF3-Gas wird aufgrund seiner geringen Reaktivität mit vielen Materialien und seiner Fähigkeit, fluorierte Verbindungen effektiv zu entfernen, bevorzugt.
Plasma-Ätzen: NF3 wird als Plasma-Ätzer in der Halbleiterindustrie verwendet.Es wird zur selektiven Entfernung von Materialien von der Oberfläche von Siliziumwafern und anderen Substraten während der Herstellung von Mikroelektronik verwendet.
Flachbildschirmherstellung: NF3-Gas wird auch bei der Herstellung von Flachbildschirmen wie Flüssigkristallbildschirmen (LCD) und Plasmabildschirmen verwendet.Es wird für Reinigungs- und Ätzverfahren während der Herstellung dieser Displays verwendet.
Solarzellen: NF3 findet Anwendung bei der Herstellung von Dünnschicht-Photovoltaikzellen, die in Solarzellen verwendet werden.
Fluorierungsmittel: Es kann als Fluoridationsmittel in verschiedenen chemischen Reaktionen verwendet werden, um Fluoratome in organische Moleküle einzuführen.
Sicherheitsbedarf: Obwohl NF3 nicht brennbar ist, ist es trotzdem wichtig, mit ihm vorsichtig umzugehen und geeignete Sicherheitsmaßnahmen zu treffen.Es kann Sauerstoff in engen Räumen verdrängen.Bei der Arbeit mit NF3-Gas sollte eine ausreichende Belüftung gewährleistet und geeignete Sicherheitsrichtlinien und -ausrüstung eingehalten werden.
Bei der Handhabung von NF3-Gas wird empfohlen, sich an Sicherheitsprotokolle zu halten, geeignete Schutzausrüstung zu verwenden und eine gute Belüftung im Arbeitsbereich zu gewährleisten, um eine sichere Umgebung zu gewährleisten.
Grundlegende Informationen
| Transportpaket: | 47L, 440L | Schmelzpunkt | -206,79°C |
| Marke: | CMC | Siedepunkt | -129,0 °C |
| Spezifikation | 100.00% | Produktionskapazität | 5000 t/Jahr |
| Zylinderdruck | 15MPa/20MPa | Ventile | Qf-30A/Cga350 |
| Aussehen | Farblos, geruchlos | Dichte | 20,96 kg/m3 |
Spezifikationen:
| Spezifikationen | Firmenstandard |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| Kohlenstoff | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Feuchtigkeit | ≤1 ppm |
| Ausgedrückt als HF | ≤1 ppm |
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