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High Purity Hcds 99,9% Si2cl6 Hexachlorodisilane

High Purity Hcds 99,9% Si2cl6 Hexachlorodisilane

MOQ: 1 kg
Preis: US $40/kg
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 TAGE
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 50000kg/Month
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Si2cl6
Produktbezeichnung:
Hexachlorodisilane
Modell Nr.:
Si2cl6
Verkehrswesen:
Auf See
Reinheit:
990,9%
Transportpaket:
Zylinder
Spezifikation:
40L, 200L
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
China
HS-Code:
2812190091
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
100t/year
CAS Nr.:
7783-82-6
Formeln:
Si2cl6
EINECS:
7783-82-6
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Industrieller Grad
Chemisches Eigentum:
Giftige Gase
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1 kg
Preis:
US $40/kg
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 TAGE
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
50000kg/Month
Beschreibung des Produkts

Beschreibung des Produkts

Hexachlorodisilan (Si2Cl6) ist eine anorganische Verbindung, die aus zwei Siliziumatomen (Si) besteht, die mit sechs Chloratomen (Cl) verbunden sind.Es handelt sich um ein farbloses Gas, das hauptsächlich als Vorläufer bei der Herstellung von Materialien auf Siliziumbasis verwendet wirdHier sind einige wichtige Punkte zum Hexachlorodisilangas:

  1. Struktur und Eigenschaften: Hexachlorodisilan hat eine tetraedrische Molekularstruktur, wobei jedes Siliziumatom an drei Chloratome und das andere Siliziumatom gebunden ist.Es ist eine flüchtige und reaktive Verbindung, und hat einen Siedepunkt von etwa 140 °C.

  2. Synthese und Herstellung: Hexachlorodisilan wird typischerweise durch die Reaktion von Siliziumtetrachlorid (SiCl4) mit elementarem Silizium (Si) oder Siliziumpulver bei hohen Temperaturen synthetisiert.Es kann auch durch die Reaktion von Silizium mit Chlorgas (Cl2) hergestellt werden.

  3. Anwendungen:

    • Halbleiterindustrie: Hexachlorodisilan ist ein entscheidender Vorläufer bei der Herstellung verschiedener dünner Siliziumfolien für die Halbleiterindustrie.Es wird in chemischen Dampfdeposition (CVD) und Atom-Schicht-Deposition (ALD) Prozessen verwendet, um Silizium enthaltende Schichten mit hoher Reinheit und Gleichmäßigkeit zu deponieren.

    • Produktion von Siliziumnitrid: Hexachlorodisilan kann als Vorläufer für die Synthese von Siliziumnitrid (Si3N4) Keramik verwendet werden.mit einem Gehalt an Kohlenwasserstoffen von mehr als 10 GHT, Schneidwerkzeuge und Schutzbeschichtungen.

    • Oberflächenänderung: Hexachlorodisilan wird als Oberflächenbehandlungsmittel zur Änderung der Oberflächeneigenschaften von Materialien verwendet.Verbessert die Haftung, oder chemische Oberflächenbeständigkeit.

  4. Sicherheitsaspekte: Hexachlorodisilane ist eine hochreaktive und flüchtige Verbindung, die Metalle korrodiert und bei Berührung mit Haut oder Augen schwere Verbrennungen verursachen kann.Es ist auch giftig, wenn es eingeatmet oder eingenommen wird.Bei der Arbeit mit Hexachlorodisilane oder anderen gefährlichen Chemikalien sollten ordnungsgemäße Handhabung, Lagerung und persönliche Schutzausrüstung verwendet werden.

Hexachlorodisilangas ist ein wichtiger Vorläufer in der Halbleiterindustrie und bei der Herstellung von Silizium-basierten Materialien.Seine Reaktivität und seine Fähigkeit, hochwertige Siliziumfolien abzulegen, machen ihn für verschiedene technologische Anwendungen wertvollEs sollte jedoch wegen seiner gefährlichen Eigenschaften mit Vorsicht behandelt werden.

 

Grundlegende Informationen.

Modell Nr. Si2Cl6 Grade-Standard Elektronenqualität
Transportpaket Zylinder, Behälter Spezifikation 40L, 200L
Handelsmarke CMC Ursprung Suzhou, China
HS-Code 2812190091 Produktionskapazität 100 t/Jahr

 


Spezifikationen:
 

IUPAC-Name Hexachlorodisilane
Weitere Namen Disiliciumhexachlorid
Identifikatoren
CAS-Nr.: 13465-77-5
EG-Nr.: 236-704-1
Eigenschaften
Molekulare Formel: Si2Cl6
Molarmasse: 2680,88 g/mol
Aussehen: Farblose Flüssigkeit
Schmelzpunkt: ≤ 20 °C
Siedepunkt: 144 °C (291 °F; 417 K)
Blitzpunkt: > 93°C
Luftdichte (Luft=1): >1
Relative Dichte ((Wasser=1)): 1.562


Probenprüfung:
 
Prüfobjekte Einheiten Spezifikationen Testergebnis
Beurteilung durch GC Weight in % ≥ 99,9 99.905
Li Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Nein. Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Mg Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Das ist alles. Gewichtsverteilung ≤ 10 0.35
K Gewichtsverteilung ≤ 05 0.08
Ca Gewichtsverteilung ≤ 05 0.16
Ti Gewichtsverteilung ≤ 10 0.18
Die Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
In Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Fe Gewichtsverteilung ≤ 10 0.48
Co. Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Ni Gewichtsverteilung ≤ 05 0.06
- Was? Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Zn Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Detaillierte Fotos

China High Purtiy Hexachlorodisilane Hcds 99.9% Si2cl6China High Purtiy Hexachlorodisilane Hcds 99.9% Si2cl6China High Purtiy Hexachlorodisilane Hcds 99.9% Si2cl6

China High Purtiy Hexachlorodisilane Hcds 99.9% Si2cl6China High Purtiy Hexachlorodisilane Hcds 99.9% Si2cl6

 

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MOQ: 1 kg
Preis: US $40/kg
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 TAGE
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 50000kg/Month
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Si2cl6
Produktbezeichnung:
Hexachlorodisilane
Modell Nr.:
Si2cl6
Verkehrswesen:
Auf See
Reinheit:
990,9%
Transportpaket:
Zylinder
Spezifikation:
40L, 200L
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
China
HS-Code:
2812190091
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
100t/year
CAS Nr.:
7783-82-6
Formeln:
Si2cl6
EINECS:
7783-82-6
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Industrieller Grad
Chemisches Eigentum:
Giftige Gase
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1 kg
Preis:
US $40/kg
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 TAGE
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
50000kg/Month
Beschreibung des Produkts

Beschreibung des Produkts

Hexachlorodisilan (Si2Cl6) ist eine anorganische Verbindung, die aus zwei Siliziumatomen (Si) besteht, die mit sechs Chloratomen (Cl) verbunden sind.Es handelt sich um ein farbloses Gas, das hauptsächlich als Vorläufer bei der Herstellung von Materialien auf Siliziumbasis verwendet wirdHier sind einige wichtige Punkte zum Hexachlorodisilangas:

  1. Struktur und Eigenschaften: Hexachlorodisilan hat eine tetraedrische Molekularstruktur, wobei jedes Siliziumatom an drei Chloratome und das andere Siliziumatom gebunden ist.Es ist eine flüchtige und reaktive Verbindung, und hat einen Siedepunkt von etwa 140 °C.

  2. Synthese und Herstellung: Hexachlorodisilan wird typischerweise durch die Reaktion von Siliziumtetrachlorid (SiCl4) mit elementarem Silizium (Si) oder Siliziumpulver bei hohen Temperaturen synthetisiert.Es kann auch durch die Reaktion von Silizium mit Chlorgas (Cl2) hergestellt werden.

  3. Anwendungen:

    • Halbleiterindustrie: Hexachlorodisilan ist ein entscheidender Vorläufer bei der Herstellung verschiedener dünner Siliziumfolien für die Halbleiterindustrie.Es wird in chemischen Dampfdeposition (CVD) und Atom-Schicht-Deposition (ALD) Prozessen verwendet, um Silizium enthaltende Schichten mit hoher Reinheit und Gleichmäßigkeit zu deponieren.

    • Produktion von Siliziumnitrid: Hexachlorodisilan kann als Vorläufer für die Synthese von Siliziumnitrid (Si3N4) Keramik verwendet werden.mit einem Gehalt an Kohlenwasserstoffen von mehr als 10 GHT, Schneidwerkzeuge und Schutzbeschichtungen.

    • Oberflächenänderung: Hexachlorodisilan wird als Oberflächenbehandlungsmittel zur Änderung der Oberflächeneigenschaften von Materialien verwendet.Verbessert die Haftung, oder chemische Oberflächenbeständigkeit.

  4. Sicherheitsaspekte: Hexachlorodisilane ist eine hochreaktive und flüchtige Verbindung, die Metalle korrodiert und bei Berührung mit Haut oder Augen schwere Verbrennungen verursachen kann.Es ist auch giftig, wenn es eingeatmet oder eingenommen wird.Bei der Arbeit mit Hexachlorodisilane oder anderen gefährlichen Chemikalien sollten ordnungsgemäße Handhabung, Lagerung und persönliche Schutzausrüstung verwendet werden.

Hexachlorodisilangas ist ein wichtiger Vorläufer in der Halbleiterindustrie und bei der Herstellung von Silizium-basierten Materialien.Seine Reaktivität und seine Fähigkeit, hochwertige Siliziumfolien abzulegen, machen ihn für verschiedene technologische Anwendungen wertvollEs sollte jedoch wegen seiner gefährlichen Eigenschaften mit Vorsicht behandelt werden.

 

Grundlegende Informationen.

Modell Nr. Si2Cl6 Grade-Standard Elektronenqualität
Transportpaket Zylinder, Behälter Spezifikation 40L, 200L
Handelsmarke CMC Ursprung Suzhou, China
HS-Code 2812190091 Produktionskapazität 100 t/Jahr

 


Spezifikationen:
 

IUPAC-Name Hexachlorodisilane
Weitere Namen Disiliciumhexachlorid
Identifikatoren
CAS-Nr.: 13465-77-5
EG-Nr.: 236-704-1
Eigenschaften
Molekulare Formel: Si2Cl6
Molarmasse: 2680,88 g/mol
Aussehen: Farblose Flüssigkeit
Schmelzpunkt: ≤ 20 °C
Siedepunkt: 144 °C (291 °F; 417 K)
Blitzpunkt: > 93°C
Luftdichte (Luft=1): >1
Relative Dichte ((Wasser=1)): 1.562


Probenprüfung:
 
Prüfobjekte Einheiten Spezifikationen Testergebnis
Beurteilung durch GC Weight in % ≥ 99,9 99.905
Li Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Nein. Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Mg Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Das ist alles. Gewichtsverteilung ≤ 10 0.35
K Gewichtsverteilung ≤ 05 0.08
Ca Gewichtsverteilung ≤ 05 0.16
Ti Gewichtsverteilung ≤ 10 0.18
Die Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
In Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Fe Gewichtsverteilung ≤ 10 0.48
Co. Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Ni Gewichtsverteilung ≤ 05 0.06
- Was? Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Zn Gewichtsverteilung ≤ 05 < 005
Detaillierte Fotos

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