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Vorläufergas bei der Oberflächenbehandlung von CVD, Zylindergas Wolframhexafluorid

Vorläufergas bei der Oberflächenbehandlung von CVD, Zylindergas Wolframhexafluorid

MOQ: 1 Stück
Preis: US $ 15/PC
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 Tage
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 200 Tonnen/Jahr
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Wf6
Produktbezeichnung:
Wolframhexafluorid
Verkehrswesen:
Auf See
DOT-Klasse:
2.3
Reinheit:
99999%
Modell Nr.:
Wolframhexafluorid
Transportpaket:
Seetransport
Spezifikation:
10 L/15 kg
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
Suzhou, China
Das ist nicht der Fall.:
7783-82-6
Formeln:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Industrielle Qualität
Chemische Eigenschaften:
Verbrennungsunterstützendes Gas
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1 Stück
Preis:
US $ 15/PC
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 Tage
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
200 Tonnen/Jahr
Hervorheben:

Vorläufergas für die Oberflächenbehandlung von CVD

,

Zylindergas Wolframhexafluorid

,

Wolframhexafluorid-Vorgängergas

Beschreibung des Produkts

Vorläufergas in der CVD-Oberflächenbehandlung Anwendungen Zylindergas Wolframhexafluorid

Wolframhexafluorid (WF6) ist eine chemische Verbindung, die aus einem Wolframatom und sechs Fluoratomen besteht.Wolframhexafluorid ist hochreaktiv und kann mit Wasser oder Luftfeuchtigkeit heftig reagieren, wodurch giftiges Wasserstofffluoridgas freigesetzt wird.

Die Anwendung von Wolframhexafluorid umfasst seine Verwendung als Vorläufer für die Ablagerung von Wolframfolien in Halbleiterherstellungsprozessen.Es wird üblicherweise in chemischen Dampfdepositionstechniken (CVD) verwendet, um dünne Filme aus Wolfram für verschiedene Anwendungen zu erzeugenWolframhexafluorid wird aufgrund seines hohen Dampfdrucks, der eine effiziente Ablagerung ermöglicht, in diesen Verfahren bevorzugt.

Es ist jedoch wichtig, Wolframhexafluorid wegen seiner Reaktivität und Toxizität mit Vorsicht zu behandeln und zu lagern.einschließlich der Verwendung geeigneter Schutzausrüstung und Handhabungsverfahren, sollte bei der Behandlung dieser Verbindung beachtet werden.

Grundlegende Informationen.
Die COA des Produkts:
 
Prüfobjekte Einheiten Qualitätsanforderungen Testergebnisse
CF4 ppm < 05 < 001
O2 ppm < 05 < 001
N2 ppm < 1 0.03
Kohlenstoff ppm < 05 < 002
CO2 ppm < 05 < 001
SiF4 ppm < 05 < 01
SF6 ppm < 05 < 01
HF ppm < 5 0.19
Das ist alles. ppb ≤ 10 < 0020
Als ppb ≤ 10 < 0001
B ppb ≤ 10 < 0005
Ca ppb ≤ 5 < 0200
Cd ppb ≤ 2 < 0001
Die ppb ≤ 10 < 0020
Fe ppb ≤ 10 < 0007
K ppb ≤ 5 < 0100
In ppb ≤ 10 < 0001
Nein. ppb ≤ 5 < 0040
Die ppb ≤ 01 < 0001
Ti ppb ≤ 10 < 0002
Li ppb ≤ 10 < 0002
U ppb ≤ 005 < 0001
Zn ppb ≤ 10 < 0005
- Ja. ppb ≤ 10 < 0100
Pb ppb ≤ 10 < 0001
P ppb ≤ 2 < 0300
Mg ppb ≤ 10 < 0020
Ni ppb ≤ 20 < 0030
- Was? ppb ≤ 5 < 0005
- Das ist Mo. ppb ≤ 10 < 0001
Gesamtverunreinigungen von anderen Metallen ppb ≤ 500 < 00010
Produktspezifikation:

Wolframhexafluorid WF6 GAS
CAS-Nr.: 7783-82-6
EINECS Nr.: 232-029-1
UN-Nr.: UN 2196
Reinheit: 99,999%
Punktklasse: 2.3
Aussehen: Farblos
Grade-Standard: Elektronen-Grad,Industrie-Grad

Detailliertes Foto
                                   Vorläufergas bei der Oberflächenbehandlung von CVD, Zylindergas Wolframhexafluorid 0
 
Unternehmensprofil

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie.Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
 
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EINZELHEITEN ZU DEN PRODUKTEN
Vorläufergas bei der Oberflächenbehandlung von CVD, Zylindergas Wolframhexafluorid
MOQ: 1 Stück
Preis: US $ 15/PC
Standardverpackung: Zylinder/Tank
Lieferfrist: 15 Tage
Zahlungs-Methode: L/C, T/T
Lieferkapazität: 200 Tonnen/Jahr
Ausführliche Information
Herkunftsort
China
Markenname
CMC
Zertifizierung
COA
Modellnummer
Wf6
Produktbezeichnung:
Wolframhexafluorid
Verkehrswesen:
Auf See
DOT-Klasse:
2.3
Reinheit:
99999%
Modell Nr.:
Wolframhexafluorid
Transportpaket:
Seetransport
Spezifikation:
10 L/15 kg
Handelsmarke:
CMC
Ursprung:
Suzhou, China
Das ist nicht der Fall.:
7783-82-6
Formeln:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Bestandteil:
Industrielle reine Luft
Grade-Standard:
Industrielle Qualität
Chemische Eigenschaften:
Verbrennungsunterstützendes Gas
Anpassung:
Erhältlich.
Min Bestellmenge:
1 Stück
Preis:
US $ 15/PC
Verpackung Informationen:
Zylinder/Tank
Lieferzeit:
15 Tage
Zahlungsbedingungen:
L/C, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
200 Tonnen/Jahr
Hervorheben

Vorläufergas für die Oberflächenbehandlung von CVD

,

Zylindergas Wolframhexafluorid

,

Wolframhexafluorid-Vorgängergas

Beschreibung des Produkts

Vorläufergas in der CVD-Oberflächenbehandlung Anwendungen Zylindergas Wolframhexafluorid

Wolframhexafluorid (WF6) ist eine chemische Verbindung, die aus einem Wolframatom und sechs Fluoratomen besteht.Wolframhexafluorid ist hochreaktiv und kann mit Wasser oder Luftfeuchtigkeit heftig reagieren, wodurch giftiges Wasserstofffluoridgas freigesetzt wird.

Die Anwendung von Wolframhexafluorid umfasst seine Verwendung als Vorläufer für die Ablagerung von Wolframfolien in Halbleiterherstellungsprozessen.Es wird üblicherweise in chemischen Dampfdepositionstechniken (CVD) verwendet, um dünne Filme aus Wolfram für verschiedene Anwendungen zu erzeugenWolframhexafluorid wird aufgrund seines hohen Dampfdrucks, der eine effiziente Ablagerung ermöglicht, in diesen Verfahren bevorzugt.

Es ist jedoch wichtig, Wolframhexafluorid wegen seiner Reaktivität und Toxizität mit Vorsicht zu behandeln und zu lagern.einschließlich der Verwendung geeigneter Schutzausrüstung und Handhabungsverfahren, sollte bei der Behandlung dieser Verbindung beachtet werden.

Grundlegende Informationen.
Die COA des Produkts:
 
Prüfobjekte Einheiten Qualitätsanforderungen Testergebnisse
CF4 ppm < 05 < 001
O2 ppm < 05 < 001
N2 ppm < 1 0.03
Kohlenstoff ppm < 05 < 002
CO2 ppm < 05 < 001
SiF4 ppm < 05 < 01
SF6 ppm < 05 < 01
HF ppm < 5 0.19
Das ist alles. ppb ≤ 10 < 0020
Als ppb ≤ 10 < 0001
B ppb ≤ 10 < 0005
Ca ppb ≤ 5 < 0200
Cd ppb ≤ 2 < 0001
Die ppb ≤ 10 < 0020
Fe ppb ≤ 10 < 0007
K ppb ≤ 5 < 0100
In ppb ≤ 10 < 0001
Nein. ppb ≤ 5 < 0040
Die ppb ≤ 01 < 0001
Ti ppb ≤ 10 < 0002
Li ppb ≤ 10 < 0002
U ppb ≤ 005 < 0001
Zn ppb ≤ 10 < 0005
- Ja. ppb ≤ 10 < 0100
Pb ppb ≤ 10 < 0001
P ppb ≤ 2 < 0300
Mg ppb ≤ 10 < 0020
Ni ppb ≤ 20 < 0030
- Was? ppb ≤ 5 < 0005
- Das ist Mo. ppb ≤ 10 < 0001
Gesamtverunreinigungen von anderen Metallen ppb ≤ 500 < 00010
Produktspezifikation:

Wolframhexafluorid WF6 GAS
CAS-Nr.: 7783-82-6
EINECS Nr.: 232-029-1
UN-Nr.: UN 2196
Reinheit: 99,999%
Punktklasse: 2.3
Aussehen: Farblos
Grade-Standard: Elektronen-Grad,Industrie-Grad

Detailliertes Foto
                                   Vorläufergas bei der Oberflächenbehandlung von CVD, Zylindergas Wolframhexafluorid 0
 
Unternehmensprofil

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd. wird von ausgebildetem Personal besetzt, kombiniert viele Jahre Erfahrung in der Gasindustrie.Wir liefern Zylindergas, elektronisches Gas usw. und den Gashalter, das Panel,Ventile und Armaturen und sonstige GeräteDie Produkte sind in verschiedenen Industriebereichen wie Halbleiterchip, Solarzelle, LED, TFT-LCD, Glasfaser,GlasWir arbeiten mit unseren globalen Kunden zusammen, um Unterstützung, Lösungen und Qualitätsprodukte zu bieten, die innovativ, zuverlässig und sicher sind.
Unsere Produkte umfassen hauptsächlich: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propan, Acetylen, Helium, Lasermischgas, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, Dopingmischgas (TMB, PH3,B2H6) und andere elektronische Gase.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
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